線(xiàn)路(lù)闆蝕刻(kè)工藝産生(shēng)大(dà)量(liàng)蝕刻(kè)廢液，該廢液中(zhōng)有(yǒu)铜(tóng)離子"100-170g/L" 氨盐(yán)及氯化(huà)按。傳統的處(chù)理(lǐ)方(fāng)式是(shì)線(xiàn)路(lù)闆企業将其(qí)作(zuò)为(wèi)廢液出售，他(tā)们以(yǐ)其(qí)为(wèi)原料用(yòng)中(zhōng)和(hé)沉澱法(fǎ)生(shēng)産海(hǎi)绵铜(tóng)及其(qí)他(tā)産品， 但其(qí)中(zhōng)大(dà)量(liàng)按離子和(hé)少(shǎo)量(liàng)铜(tóng)離子不(bù)能得到(dào)有(yǒu)效的利用(yòng)， 造成(chéng)資源浪費。

1、該工藝采用(yòng)直(zhí)接电解(jiě)法(fǎ)， 直(zhí)接电解(jiě)是(shì)将蝕刻(kè)廢液通(tòng)过(guò)电解(jiě)沉積提(tí)取(qǔ)高純度(dù)电解(jiě)铜(tóng)， 使堿性(xìng)蝕刻(kè)廢液铜(tóng)離子降低(dī)， 經(jīng)組分(fēn)調配後(hòu)回(huí)用(yòng)于生(shēng)産線(xiàn)。 如(rú)不(bù)需要(yào)循环(huán)利用(yòng)， 可(kě)以(yǐ)取(qǔ)铜(tóng)後(hòu)現(xiàn)场(chǎng)處(chù)理(lǐ)， 通(tòng)过(guò)綜合利用(yòng)降低(dī)處(chù)置成(chéng)本， 污染物(wù)處(chù)理(lǐ)至符合要(yào)求濃度(dù)。

2、該工藝采用(yòng)溶劑萃取(qǔ)－反(fǎn)萃取(qǔ)－电積等对(duì)蝕刻(kè)廢液進(jìn)行再生(shēng)處(chù)理(lǐ)，利用(yòng)萃取(qǔ)方(fāng)式对(duì)蝕刻(kè)廢液中(zhōng)的铜(tóng)離子進(jìn)行萃取(qǔ)富集， 實(shí)現(xiàn)无損分(fēn)離， 萃取(qǔ) 液与餘液通(tòng)过(guò)組分(fēn)調配， 恢複蝕刻(kè)性(xìng)能後(hòu)， 全部(bù)返回(huí)蝕刻(kè)生(shēng)産線(xiàn)使用(yòng)， 再利用(yòng)电解(jiě)法(fǎ)对(duì)反(fǎn)萃取(qǔ)後(hòu)的电解(jiě)液進(jìn)行电積， 得到(dào)99.5%以(yǐ)上(shàng)的电解(jiě)铜(tóng)闆。